恭喜广州方邦电子股份有限公司苏陟获国家专利权
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龙图腾网恭喜广州方邦电子股份有限公司申请的专利电磁膜获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112888281B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201911200924.5,技术领域涉及:H05K9/00;该发明授权电磁膜是由苏陟;高强设计研发完成,并于2019-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本电磁膜在说明书摘要公布了:本发明涉及一种电磁膜,包括基板和导电结构,基板可供电磁波透射,基板上间隔设置有多个开口部,导电结构被设置于所述开口部限定的内部空间,所有相邻开口部的间距S中的最大值小于电磁波的波长λ。该电磁膜通过使多个开口部之间形成孔径尺寸小于电磁波波长的间隙孔,电磁波通过间隙孔时发生衍射而无序传播,进而扩大传播范围。
本发明授权电磁膜在权利要求书中公布了:1.一种电磁膜,其特征在于,包括基板(1)和导电结构(2),所述基板(1)可供电磁波透射,所述基板(1)上间隔设置有多个开口部(11),所述导电结构(2)被设置于所述开口部(11)限定的内部空间,所有相邻所述开口部(11)的间距S中的最大值小于所述电磁波的波长λ;所述电磁波无法透射过所述导电结构(2)。
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