恭喜慕德微纳(杭州)科技有限公司仇旻获国家专利权
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龙图腾网恭喜慕德微纳(杭州)科技有限公司申请的专利一种渐变膜层的加工方法、以及渐变深度微纳结构的加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119846754B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510340263.5，技术领域涉及：G02B5/00；该发明授权一种渐变膜层的加工方法、以及渐变深度微纳结构的加工方法是由仇旻;杜凯凯;蔡璐;章浙烽;尹建军设计研发完成，并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种渐变膜层的加工方法、以及渐变深度微纳结构的加工方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种渐变膜层的加工方法、以及渐变深度微纳结构的加工方法，渐变膜层的加工方法包括以下步骤，在衬底表面固定一平面膜层；通过渐变镀膜和或曝光显影，在平面膜层表面形成一厚度渐变的牺牲膜层；基于刻蚀选择比，通过干法刻蚀，依次去除渐变表面以上的牺牲膜层和平面膜层，得到带有渐变膜层的衬底；渐变深度微纳结构的加工方法包括以下步骤，在渐变膜层表面形成光刻胶膜，并对渐变结构区域的光刻胶膜进行图案化；通过刻蚀去胶，依次去除渐变结构区域的光刻胶膜和渐变膜层，刻蚀结束后经后处理，得到渐变深度微纳结构。本发明具有提高加工灵活度、增大渐变膜层的厚度调控范围、制得连续深度变化的渐变深度微纳结构的效果。
本发明授权一种渐变膜层的加工方法、以及渐变深度微纳结构的加工方法在权利要求书中公布了：1.一种渐变膜层的加工方法，其特征在于：包括以下步骤，S11准备一衬底，在所述衬底表面固定一平面膜层；S12通过渐变镀膜和或曝光显影，在所述平面膜层表面形成一厚度渐变的牺牲膜层，且所述平面膜层和牺牲膜层之间存在刻蚀选择比；S13基于所述刻蚀选择比，通过干法刻蚀，依次去除渐变表面以上的所述牺牲膜层和平面膜层，刻蚀结束后经后处理，得到带有渐变膜层的衬底。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人慕德微纳(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：311199 浙江省杭州市临平区星桥街道星桥北路60号1幢C140-C144；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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