恭喜湖南立方新能源科技有限责任公司周颖获国家专利权
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龙图腾网恭喜湖南立方新能源科技有限责任公司申请的专利一种掺硅补锂负极片及其制备方法以及锂离子电池获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114156554B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111516365.6，技术领域涉及：H01M10/42；该发明授权一种掺硅补锂负极片及其制备方法以及锂离子电池是由周颖;王志斌;徐雄文;帅波设计研发完成，并于2021-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掺硅补锂负极片及其制备方法以及锂离子电池在说明书摘要公布了：本发明属于锂离子技术领域，尤其涉及一种掺硅补锂负极片及其制备方法以及锂离子电池，从上至下依次包括第一掺硅涂层、第一负极集流体、补锂层、第二负极集流体和第二掺硅涂层。本发明的掺硅补锂负极片两外侧设置有第一掺硅涂层和第二掺硅涂层，内侧设置有补锂层，具有高的克容量、首次效率、循环稳定性以及安全性。
本发明授权一种掺硅补锂负极片及其制备方法以及锂离子电池在权利要求书中公布了：1.一种掺硅补锂负极片的制备方法，其特征在于，所述掺硅补锂负极片从上至下依次包括第一掺硅涂层、第一负极集流体、补锂层、第二负极集流体和第二掺硅涂层，第一掺硅涂层与第二掺硅涂层连接，第一负极集流体与第二负极集流体连接；所述掺硅补锂负极片的制备方法包括以下步骤：步骤S1、配制负极硅基浆料，取一负极集流体，将负极硅基浆料涂覆于负极集流体的一表面形成负极硅基涂层得到基片；步骤S2、取一补锂片，将补锂片设置于基片远离负极硅基浆料的另一表面得到复合基片；步骤S3、以补锂片为内侧面，将复合基片翻折，使补锂片对折形成补锂层，负极集流体对折形成第一负极集流体和第二负极集流体，负极硅基涂层对折形成第一掺硅涂层和第二掺硅涂层。
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