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龙图腾网恭喜富士胶片株式会社申请的专利感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114450631B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080067976.4，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法是由三好太朗;米久田康智;福崎英治;高桥年哉设计研发完成，并于2020-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，含有A酸分解性树脂、B由通式b1表示的化合物、及C由通式c1表示的化合物，化合物C的含量相对于化合物B的含量的比例为0.01质量％以上且10质量％以下。L表示单键或2价的连接基团。A表示通过酸的作用分解的基团。B表示通过酸的作用分解的基团、羟基或羧基。其中，至少1个B表示羟基或羧基。n表示1～5的整数。X表示n+1价的连接基团。M+表示锍离子或碘鎓离子。

本发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：（A）具有通过酸的作用分解而极性增大的基团的树脂；（B）由下述通式（b1）表示的、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物；及（C）由下述通式（c1）表示的、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，所述化合物（C）的含量相对于所述化合物（B）的含量的比例为0.01质量%以上且10质量%以下， 通式（b1）中，L表示单键或2价的连接基团，当存在多个L时，多个L相同或不同，A表示通过酸的作用分解的基团，当存在多个A时，多个A相同或不同，n表示1～5的整数，X表示n+1价的连接基团，M+表示锍离子或碘鎓离子， 通式（c1）中，L表示单键或2价的连接基团，当存在多个L时，多个L相同或不同，n表示1～5的整数，X表示n+1价的连接基团，M+表示锍离子或碘鎓离子，其中，通式（c1）中的L、n、X及M+分别与通式（b1）中的L、n、X及M+相同，B表示通过酸的作用分解的基团、羟基或羧基，当B为1个时，表示羟基或羧基；当存在多个B时，多个B相同或不同，其中，至少1个B表示羟基或羧基。

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