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龙图腾网恭喜天津中合基因科技有限公司;中合基因科技(常州)有限公司申请的专利DNA合成用固定相及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119661617B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510179531.X，技术领域涉及：C07H23/00；该发明授权DNA合成用固定相及其制备方法和应用是由袁凯静;娄倩倩;刘伟;刘力沛;逯晓云;孙隽设计研发完成，并于2025-02-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本DNA合成用固定相及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种DNA合成用固定相及其制备方法和应用。本发明提供的DNA合成用固定相的制备方法，包括：S1、制备纳米磁性四氧化三铁颗粒，并在纳米磁性四氧化三铁颗粒表面包裹SiO2层，得到纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2；S2、在纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2表面进行叠氮基团修饰，形成表面修饰的纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2@N3；S3、通过Click反应使起始子负载到表面修饰的纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2@N3的表面，得到DNA合成用固定相。本发明提供的固定相可用于DNA的合成，具备结合强度高、稳定性好、起始子不易脱落、DNA合成产量高等特点。

本发明授权DNA合成用固定相及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种DNA合成用固定相的制备方法，其特征在于，包括：S1、制备纳米磁性四氧化三铁颗粒，并在所述纳米磁性四氧化三铁颗粒表面包裹SiO2层，得到纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2；S2、在纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2表面进行叠氮基团修饰，得到表面修饰的纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2@N3；S3、将所述表面修饰的纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2@N3与起始子混合，通过Click反应使起始子负载到所述表面修饰的纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2@N3的表面，得到所述DNA合成用固定相；所述起始子为5’端含有二苯并环辛炔基团修饰的DNA单链，且所述DNA单链的3’端含有游离羟基；S2具体包括：将纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2与含有叠氮基团的硅烷偶联剂混合，通过缩合反应在纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2表面进行叠氮基团修饰，得到表面修饰的纳米磁性复合材料Fe3O4@SiO2@N3；所述含有叠氮基团的硅烷偶联剂选自3-叠氮基丙基三乙氧基硅烷、3-叠氮基丙基三甲氧基硅烷、6-叠氮基磺酰基己基三乙氧基硅烷中的至少一种。

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