恭喜杭州新川电子材料有限责任公司谢上川获国家专利权
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龙图腾网恭喜杭州新川电子材料有限责任公司申请的专利无机包覆铜粉及其制备方法、导电浆料组合物获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119549703B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510117049.3,技术领域涉及:B22F1/16;该发明授权无机包覆铜粉及其制备方法、导电浆料组合物是由谢上川;杨杰;章上林设计研发完成,并于2025-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本无机包覆铜粉及其制备方法、导电浆料组合物在说明书摘要公布了:本申请公开了无机包覆铜粉及其制备方法、导电浆料组合物。该无机包覆铜粉,其包括Cu核体,以及包覆于所述Cu核体表面的无机包覆结构,所述无机包覆结构包括SiO2‑B2O3化合物,所述Cu核体为球形体,所述Cu核体的粒径为0.1‑3μm,所述无机包覆结构覆盖所述Cu核体的面积不低于所述Cu核体表面积的50%,所述无机包覆结构和所述Cu核体的质量比为(11‑14):(86‑89)。该无机包覆铜粉具有较好的抗氧化性。
本发明授权无机包覆铜粉及其制备方法、导电浆料组合物在权利要求书中公布了:1.一种无机包覆铜粉,其特征在于,包括Cu核体,以及包覆于所述Cu核体表面的无机包覆结构,所述无机包覆结构包括SiO2-B2O3化合物,所述Cu核体为球形体,所述Cu核体的粒径为0.1-3μm,所述无机包覆结构覆盖所述Cu核体的面积不低于所述Cu核体表面积的50%,所述无机包覆结构和所述Cu核体的质量比为(11-14):(86-89);所述无机包覆结构中进一步包括分散添加剂,所述分散添加剂包括含有硅烷和或硅醇的两亲分子,所述分散添加剂是在形成所述SiO2-B2O3化合物之前预先加入至反应溶液中的,所述SiO2-B2O3化合物通过机械混合包覆于所述Cu核体表面。
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