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龙图腾网恭喜南京理工大学申请的专利粗糙面发射率分析方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114970109B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210466750.2，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权粗糙面发射率分析方法及系统是由樊振宏;林佳男;李兆龙;丁大志;李猛猛;何姿设计研发完成，并于2022-04-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本粗糙面发射率分析方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种粗糙面发射率分析方法及系统，该方法为：首先生成粗糙面几何模型，并通过八叉树分组将其分解成若干个小组；其次利用Stratton‑Chu公式计算每个小组经相位补偿后的散射电场；然后将每个小组的散射电场进行散射俯仰角、散射方位角和入射俯仰角三个角度域的三维插值，通过相位恢复以及聚合得到整个粗糙面的散射电场；最后将计算的散射电场转换为双站散射系数并在半球空间内积分得到反射率，根据能量守恒计算每个入射角的发射率。该方法较近似解析方法，突破了粗糙面粗糙度的限制，适用于分析任何粗糙度的粗糙面发射率；较矩量法、有限差分、有限元等数值方法具有更快的计算速度。

本发明授权粗糙面发射率分析方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种粗糙面发射率分析方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、生成粗糙面几何模型，根据整个粗糙面的物理尺寸设置分组尺寸，并判断哪些小组是非空组；步骤2、利用散射电场数据的可压缩性，在散射俯仰角、散射方位角和入射俯仰角三个角度域中放置离散点，离散点处采用Stratton-Chu公式计算散射电场，非离散点处进行相位补偿，通过三维插值、相位恢复以及聚合得到整个粗糙面的散射电场并转化为双站散射系数；具体如下：根据物理光学法，远场区的散射电场由下式表示： 其中，θi和分别为入射俯仰角和入射方位角，θs和分别为散射俯仰角和散射方位角，j为虚数单位，k和η分别为自由空间中的波数和波阻抗，和分别为入射方向和散射方向的单位矢量，r表示源点和观察点之间的距离，表示积分区域上的位置矢量，表示粗糙面的外法向矢量，表示入射磁场，ds′为面积元素；用Nt个三角面元离散，可得： 每个入射角的发射率由双站散射系数在半球空间内的积分得到，而双站散射系数等于散射电场除以照射面积，故发射率积分前需要计算足够多个入射角为散射角为时的散射电场；通过分组降低各小组的采样点数，剩余散射角和入射角的散射电场值通过插值的方法计算出，再聚合得到整个粗糙面的散射电场；在插值操作之前对计算得到的散射电场进行相位补偿，第n组相位补偿场为 式中，表示第n组中三角形面元的个数，表示第n组组中心的坐标，dsi′为第n组的面积元素；利用这些相位补偿场在散射俯仰角、散射方位角和入射俯仰角三个角度域进行三维插值出每个小组全部待求角度点上的散射电场；叠加每个小组的散射贡献之前，对散射电场进行如下所示相位恢复： 综上可得到整个粗糙面在上半空间的散射电场，转换为双站散射系数以便于步骤3的粗糙面发射率计算；步骤3、根据双站散射系数在半球空间内的积分计算每个入射角的发射率。

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