恭喜深圳市大族瑞利泰德精密涂层有限公司林东获国家专利权
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龙图腾网恭喜深圳市大族瑞利泰德精密涂层有限公司申请的专利一种应用于印刷电路板的钻针涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119194357B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411613254.0，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权一种应用于印刷电路板的钻针涂层及其制备方法是由林东;金愉;李相成;吴丽华;杨朝辉设计研发完成，并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种应用于印刷电路板的钻针涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及对金属材料的镀覆技术领域，尤其涉及一种应用于印刷电路板的钻针涂层及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：S1、对钻针表面进行离子蚀刻；S2、利用脉冲负偏压继续对钻针进行离子蚀刻；S3、对蚀刻后的钻针施加脉冲负偏压，利用石墨靶材得到ta‑C层；S4、通过钽粉与太阳能级多晶硅、炭黑得到复合靶材；S5、施加脉冲负偏压，利用复合靶材在ta‑C层上沉积复合层即得。本发明制备的钻针涂层硬度高、结合力强，从而能够提高钻针的使用寿命。
本发明授权一种应用于印刷电路板的钻针涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种应用于印刷电路板的钻针涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、在真空下通入惰性气体与氢气的混合气体对钻针表面进行蚀刻； S2、继续采用惰性气体在脉冲负偏压下对钻针进行离子蚀刻； S3、对蚀刻后的钻针施加脉冲负偏压，使石墨靶材在钻针表面得到ta-C层； S4、将钽粉与太阳能级多晶硅、炭黑混合后进行球磨以机械活化，球磨20~30min后在3000~3500℃下燃烧合成10~30min，然后进行球磨4~8h以得到粉末，粉末加入到20%的盐酸溶液升温处理4~6h去除杂质，过滤，烘干后进行热压得到复合靶材； S5、采用氮气和氩气混合，施加脉冲负偏压，利用复合靶材在步骤S3中的ta-C层上沉积复合层，即得到钻针涂层； 所述钽粉与太阳能级多晶硅、炭黑的质量比为50~60:30~40:5~10。
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