恭喜柯尼卡美能达株式会社佐藤洋平获国家专利权
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龙图腾网恭喜柯尼卡美能达株式会社申请的专利喷墨头、喷墨头的制造方法以及喷墨记录装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116096579B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080103807.1,技术领域涉及:B41J2/14;该发明授权喷墨头、喷墨头的制造方法以及喷墨记录装置是由佐藤洋平;下村明久;吉田仁纪;香西洋明设计研发完成,并于2020-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷墨头、喷墨头的制造方法以及喷墨记录装置在说明书摘要公布了:一种喷墨头,该喷墨头具有:硅喷嘴基板11,该硅喷嘴基板11具有墨的流路面S1和与流路面S1相向的墨的射出面S2,并具有从流路面S1贯通至射出面S2的喷嘴111;流路基板12,该流路基板12与硅喷嘴基板11的流路面S1接合,并具备墨的流路和具有流路的形成面的基板主体12a;以及疏液膜14,该疏液膜14设置于硅喷嘴基板11的射出面S2,其中,流路基板12具有:贯通流路125,该贯通流路125以面向喷嘴111的方式贯通基板主体12a;以及n个单独循环流路121,该n个单独循环流路121与贯通流路125连通并朝向远离喷嘴111的方向延伸,并且具有在从流路基板12的与硅喷嘴基板11接合的面的相反侧观察的俯视时与基板主体12a重叠的部分,各个单独循环流路121与喷嘴111的位置关系具有特定的关系。
本发明授权喷墨头、喷墨头的制造方法以及喷墨记录装置在权利要求书中公布了:1.一种喷墨头,所述喷墨头具有: 硅喷嘴基板,所述硅喷嘴基板具有墨的流路面和与所述流路面相向的墨的射出面,并具有从所述流路面贯通至所述射出面的喷嘴; 流路基板,所述流路基板与所述硅喷嘴基板的所述流路面接合,并具备墨的流路和形成所述流路的基板主体;以及 疏液膜,所述疏液膜设置于所述硅喷嘴基板的所述射出面, 其中, 所述流路基板具有贯通流路和n个单独循环流路作为所述墨的流路,所述贯通流路以面向所述喷嘴的方式贯通所述基板主体,所述n个单独循环流路与所述贯通流路连通并朝向远离所述喷嘴的方向延伸,并且所述n个单独循环流路具有在从所述流路基板的与所述硅喷嘴基板接合的面的相反侧观察的俯视时与所述基板主体重叠的部分, 各个所述单独循环流路与所述喷嘴的位置关系满足下述式1: L×tanφH1式1 式1中的各符号在以包含所述喷嘴的中心和所述单独循环流路的方式用与所述硅喷嘴基板的所述流路面正交的面剖开所述硅喷嘴基板和所述流路基板而得到的截面中,表示以下的意思: φ:将在所述射出面上远离所述单独循环流路的一侧的第一喷嘴端部和在所述流路面上靠近所述单独循环流路的一侧的第二喷嘴端部连结的直线与所述射出面所成的角的角度 L:从包含所述第一喷嘴端部且与所述射出面正交的直线到所述基板主体中的所述贯通流路的形成面与所述单独循环流路的形成面的交点中的距所述流路面最远的交点的距离 H1:从所述射出面到所述基板主体中的所述贯通流路的形成面与所述单独循环流路的形成面的交点中的距所述流路面最远的交点的距离。
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