恭喜得克萨斯大学体系董事会Z·奥特维诺斯基获国家专利权
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龙图腾网恭喜得克萨斯大学体系董事会申请的专利用于高性能电子显微镜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114341926B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080062604.2，技术领域涉及：G06T5/80；该发明授权用于高性能电子显微镜的方法是由Z·奥特维诺斯基;R·布罗姆伯格;D·伯雷克设计研发完成，并于2020-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于高性能电子显微镜的方法在说明书摘要公布了：提供了用于校正电子显微镜图像包括cryo‑EM图像中的一个或多个图像像差的方法。该方法包括获得具有一个或多个已知特性的内部参考网格样本的多个电子显微镜EM图像，所述多个电子显微镜图像是针对多个光学条件和针对多个协调的波束‑图像移位而获得的。除了其它特征之外，该方法还尤其可以包括确定像差校正函数，该像差校正函数使用内核规范相关分析KCCA来预测被成像的区域中的每个点的像差。
本发明授权用于高性能电子显微镜的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于校正电子显微镜EM图像中的一个或多个图像像差的方法，其特征在于，该方法包括： 获得内部参考网格样本的多个EM图像，所述多个EM图像是使用电子显微镜关于多个光学条件且多个协调的波束-图像移位捕获的； 通过校正所述多个EM图像的样本漂移以产生EM显微照片； 通过使用一个或多个去卷积系数对变换的图像去卷积来生成去卷积的图像，所述变换的图像是通过向所述EM显微照片应用傅里叶变换来生成； 通过对去卷积的图像应用高通滤波器，以产生经滤波的去卷积的图像； 通过计算所述经滤波的去卷积的图像的逆傅里叶变换以产生校正了像差的EM显微照片； 确定校正了像差的EM显微照片的强度分布； 计算强度分布的矩；以及 使用一个或多个去卷积系数执行迭代优化过程，直到基于矩的最大值确定最优去卷积系数，所述迭代优化过程包括从与所述迭代优化过程的前一迭代不同的去卷积系数值范围中选择一个或多个去卷积系数。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人得克萨斯大学体系董事会，其通讯地址为：美国得克萨斯；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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