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龙图腾网恭喜株式会社爱发科申请的专利吸附装置以及真空处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113939903B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080040321.8，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权吸附装置以及真空处理装置是由阪上弘敏;大野哲宏设计研发完成，并于2020-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本吸附装置以及真空处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种在使用冷却用气体冷却基板的吸附装置中防止冷却用气体的泄漏从而提高基板的冷却效率的技术。在本发明中，升降构件15构成为在不支承基板10的状态下，连结部15a配置在贯通孔52的引导部53内，并且基板支承部15b配置在贯通引导孔52的收容部54内。在升降构件15的连结部15a与基板支承部15b之间设有O形环17，通过与设置在贯通引导孔52的收容部54的支承壁部55密合地支承该O型环而将贯通引导孔52的收容部54相对于引导部53密封。

本发明授权吸附装置以及真空处理装置在权利要求书中公布了：1.一种吸附装置，其具有： 主体部，其具有用于在电介质中吸附保持基板的吸附电极，在吸附侧的部分设有用气体冷却所述基板的冷却用空间；以及 升降构件，其经由贯通引导孔支承所述基板并使其升降，所述贯通引导孔与所述主体部的冷却用空间连通且贯通该主体部，其中， 所述升降构件构成为具有支承所述基板的基板支承部以及与该基板支承部连结并被驱动机构驱动的连结部，并且，在不支承所述基板的状态下，所述基板支承部配置在与所述贯通引导孔的所述冷却用空间连通的收容部内，并且所述连结部配置在与所述贯通引导孔的收容部连通的引导部内， 在所述升降构件的所述连结部与所述基板支承部之间设有密封构件，通过与设置在所述贯通引导孔的收容部的支承壁部密合地支承所述密封构件，从而将所述贯通引导孔的引导部相对于所述收容部密封， 在所述基板支承部的所述连结部侧的部分设有密封定位部，在所述密封定位部的所述连结部侧的部分设有直径比所述连结部小的圆柱状的槽部， 所述密封构件设置在所述槽部，形成为具有比所述升降构件的所述槽部的外径些许小的内径，且具有比所述基板支承部的外径小的外径。

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