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龙图腾网恭喜富士胶片电子材料美国有限公司申请的专利抛光组合物及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114945648B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180009070.1，技术领域涉及：C09K13/00；该发明授权抛光组合物及其使用方法是由黄亭凯;林大为;胡斌;温立清;梁燕南设计研发完成，并于2021-02-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本抛光组合物及其使用方法在说明书摘要公布了：一种抛光组合物，包括磨料；pH调整剂；阻挡摸移除速率增强剂；低k移除速率抑制剂；含唑腐蚀抑制剂；以及钌移除速率增强剂。一种抛光基材的方法，其包括下述步骤：施加本文所述的抛光组合物至基材的表面，其中所述表面包含钌或硬掩膜材料；使衬垫与该基材的表面接触，并相对于该基材移动该衬垫。

本发明授权抛光组合物及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种抛光组合物，其包含： 磨料，其中，所述磨料的含量为所述组合物的0.1重量%至50重量%； pH调整剂，其中，所述pH调整剂的含量为所述组合物的0.01重量%至10重量%； 阻挡膜移除速率增强剂，其中，所述阻挡膜移除速率增强剂的含量为所述组合物的0.002重量%至4重量%，且所述阻挡膜移除速率增强剂为有机酸或其盐，所述有机酸选自于由葡萄糖酸、乳酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、羟基乙酸、丙二酸、甲酸、乙二酸、乙酸、丙酸、过乙酸、琥珀酸、氨基乙酸、苯氧基乙酸、二甘氨酸、二甘醇酸、甘油酸、甲基甘氨酸、丙氨酸、组氨酸、缬氨酸、苯丙氨酸、脯氨酸、谷氨酰胺、天冬氨酸、谷氨基酸、精氨酸、赖氨酸、酪氨酸、苯甲酸、及其混合物所组成的组； 低k移除速率抑制剂，其中，所述低k移除速率抑制剂的含量为所述组合物的0.0005重量%至5重量%，所述低k移除速率抑制剂为非离子型表面活性剂，所述非离子型表面活性剂选自于由烷氧化醇、烷氧化烷基酚、烷氧化三苯乙烯基酚、烷氧化山梨醇酯、聚烷氧化物、四羟基寡聚物、烷氧化二胺、及其混合物所组成的组； 含唑腐蚀抑制剂，其中，所述含唑腐蚀抑制剂的含量为所述组合物的0.0001重量%至1重量%； 钌移除速率增强剂，其中，所述钌移除速率增强剂的含量为所述组合物的0.0001重量%至5重量%，所述钌移除速率增强剂选自于由氢氧化铵、氯化铵、氟化铵、溴化铵、硫酸铵、碳酸铵、碳酸氢铵、硝酸铵、磷酸铵、醋酸铵、硫氰酸铵、硫氰酸钾、硫氰酸钠、硝酸、硝酸钠、硝酸钾、硝酸铷、硝酸铯、氟化钠、氟化钾、氟化铷、氟化铯、氯化钠、氯化钾、氯化铷、氯化铯、及其混合物所组成的组；以及 螯合剂，其中，所述螯合剂的含量为所述组合物的0.001重量%至1重量%，且所述螯合剂选自于由乙二胺四乙酸、N-羟乙基-乙二胺三乙酸、氮基三乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、环己二胺四乙酸、氮基三甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、及其组合所组成的组。

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