延原表股份有限公司崔明云获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉延原表股份有限公司申请的专利掩模框架以及包括其的沉积系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114196910B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010908264.2，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩模框架以及包括其的沉积系统是由崔明云;郑夏璟;朴炚秀;崔相奎;俞权国;金永国设计研发完成，并于2020-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模框架以及包括其的沉积系统在说明书摘要公布了：本发明的目的在于提供一种能够缩短在在线沉积系统中被连续带入腔室的基板和基板之间的间距的掩模框架。并且，能够应用于在线水平沉积系统以及在线垂直沉积系统。根据目的，本发明的掩模框架的一侧边的端部形成有平坦部或者向布置有基板的内侧凹陷的凹陷部；在掩模框架的与形成有平坦部或者凹陷部的边对向的边形成有向外侧凸出的阻断部，其中，阻断部以及平坦部或者凹陷部形成为：作为结合在彼此连续地布置的基板的掩模框架中的第一掩模框架的阻断部维持进入第二掩模框架的平坦部或者凹陷部的状态下不彼此接触，从而在缩短基板和基板之间的间距的同时阻断蒸发物向腔室顶部侧飞散。
本发明授权掩模框架以及包括其的沉积系统在权利要求书中公布了：1.一种掩模框架，固定有与基板结合的掩模，其特征在于， 在所述掩模框架的第一边形成有向布置有基板的内侧凹陷的凹陷部； 在所述掩模框架的与形成有所述凹陷部的第一边对向的第二边形成有向外侧凸出的阻断部， 其中，所述阻断部以及所述凹陷部形成为：作为结合在彼此连续地布置的基板的掩模框架中的第一掩模框架的阻断部维持进入第二掩模框架的凹陷部的状态下不彼此接触，从而在缩短基板和基板之间的间距的同时阻断蒸发物向腔室顶部侧飞散， 所述第一边及所述第二边配备有沿边向上凸起的凸出部。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人延原表股份有限公司，其通讯地址为：韩国京畿道坡州市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号