东京毅力科创株式会社甲斐亚希子获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利显影处理方法和显影处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112445086B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010849612.3,技术领域涉及:G03F7/30;该发明授权显影处理方法和显影处理装置是由甲斐亚希子;一之宫博设计研发完成,并于2020-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本显影处理方法和显影处理装置在说明书摘要公布了:涉及显影处理方法和显影处理装置。降低形成对水的接触角大的抗蚀膜时的缺陷数。显影处理方法对基板上的抗蚀膜进行显影处理,包括:工序A,向前述基板供给显影液以使前述抗蚀膜进行显影,形成抗蚀图案;工序B,向显影后的前述基板供给水系清洗液,用该水系清洗液对该基板进行清洗;工序C,在用前述水系清洗液清洗了的前述基板上涂布水溶性聚合物的水溶液,在前述基板表面形成具有亲水性的亲水性层;和,工序D,对形成有前述亲水性层的基板用冲洗液进行清洗,前述工序B包括使前述基板的转速加速的工序a和在前述工序a后直至前述工序C开始之间使前述基板的转速减速的工序b,前述工序b中的减速度小于前述工序a中的加速度。
本发明授权显影处理方法和显影处理装置在权利要求书中公布了:1.一种显影处理方法,其为对基板上的抗蚀膜进行显影处理的显影处理方法,其包括如下工序: 工序A,向所述基板供给显影液以使所述抗蚀膜进行显影,形成抗蚀图案; 工序B,向显影后的所述基板供给水系清洗液,用该水系清洗液对该基板进行清洗; 工序C,在用所述水系清洗液清洗了的所述基板上涂布水溶性聚合物的水溶液,在所述基板的表面形成具有亲水性的亲水性层;和, 工序D,对形成有所述亲水性层的基板用冲洗液进行清洗, 所述工序B包括如下工序: 工序a,使所述基板的转速加速;和, 工序b,在所述工序a后,直至所述工序C开始为止的期间,使所述基板的转速减速, 所述工序b中的减速度小于所述工序a中的加速度, 所述工序D包括如下工序: 工序c,边向形成有所述亲水性层的基板供给所述冲洗液,边使该基板旋转;和, 工序d,在所述工序c后,在不供给所述冲洗液的状态下使所述基板旋转并干燥, 所述工序d包括如下工序: 工序m,边在基板上中央供给气体使得在所述冲洗液的膜中形成凹部,边使所述基板的转速加速,扩大所述凹部;和, 工序n,在所述工序m后,随着所述凹部扩大而使所述基板的转速减速。
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