苏州润邦半导体材料科技有限公司马晓明获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉苏州润邦半导体材料科技有限公司申请的专利一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120122400B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510607413.4，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法是由马晓明;陈玉;杨槐;童颖佳;李文武;高清设计研发完成，并于2025-05-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、有机碱和溶剂，所述非离子表面活性剂为：；所述阴离子表面活性剂为异辛醇醚磷酸酯或异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯。本发明采用炔二醇类非离子表面活性剂，具有相互连接的双极性基的双尾巴的作用，与阴离子表面活性剂协同作用，在提高表面活性剂活性的同时，降低冲洗液的表面张力，从而降低光刻胶线条内应力，防止倒塌；炔二醇中的双‑OH与光刻胶中显影未完全的游离羧酸发生酯化反应，生成疏水性材料表层，改善线边缘粗糙度及图像表面粗糙度；通过有机碱与光刻胶表面的功能基团发生交联反应，提高机械力学性能，进一步防止倒塌。
本发明授权一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法在权利要求书中公布了：1.一种防倒塌的光刻胶冲洗液，其特征在于，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、有机碱和溶剂， 所述非离子表面活性剂为：； 所述阴离子表面活性剂为异辛醇醚磷酸酯或异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯； 所述冲洗液在20℃的表面张力为20-40mNm；所述非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂的质量比为1:0.3-0.6；所述溶剂为水；所述有机碱在冲洗液中的浓度为100-1000ppm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人苏州润邦半导体材料科技有限公司，其通讯地址为：215634 江苏省苏州市张家港保税区港澳路15号传感产业园一楼北侧106A室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号