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龙图腾网获悉莱特莱德(上海)技术有限公司申请的专利一种基于聚四氟乙烯的中空纤维纳滤膜的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120094415B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510603994.4，技术领域涉及：B01D67/00；该发明授权一种基于聚四氟乙烯的中空纤维纳滤膜的制备方法是由李鹏;苏战华;刘婷婷设计研发完成，并于2025-05-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于聚四氟乙烯的中空纤维纳滤膜的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及纳滤膜制备技术领域，尤其涉及一种基于聚四氟乙烯的中空纤维纳滤膜的制备方法，通过聚多巴胺（PDA）涂覆和等离子体刻蚀等处理，提高基膜亲水性；并通过胺类和酰氯类物质进行两次界面聚合反应，构建致密且无缺陷的二级聚酰胺层；在界面聚合反应过程中采用双次聚合反应。经过第一次聚合反应后，聚酰胺薄膜层容易出现缺陷，经过第二次聚合反应，能够弥补第一次聚合反应表面分离层的缺陷，使聚酰胺薄膜层具有更好的分离效果。最后通过后处理，增强复合膜的交联度。同时通过二次聚合反应与刻蚀过程中反应效果的匹配，在避免试剂浪费的同时保证了二级聚酰胺层的成型质量，本发明制备的纳滤膜能够适用于强有机溶剂的分离。

本发明授权一种基于聚四氟乙烯的中空纤维纳滤膜的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种基于聚四氟乙烯的中空纤维纳滤膜的制备方法，其特征在于，包括： 步骤S1，将中空纤维膜支撑层置于丙酮中进行超声波清洗，再置于乙醇中进行超声波清洗； 步骤S2，将步骤S1得到的中空纤维膜支撑层浸入含有多巴胺盐酸盐的Tris～HCl缓冲液中进行震荡反应以在中空纤维膜支撑层的表面形成PDA涂层； 步骤S3，采用O2等离子体刻蚀方法对PDA涂层表面进行刻蚀得到中空纤维膜基膜； 在所述步骤S3中，在采用O2等离子体刻蚀方法对PDA涂层表面进行刻蚀前执行以下步骤： 步骤S31，采用惰性气体对PDA涂层表面进行等离子体刻蚀0.5min； 步骤S32，采用O2对PDA涂层表面进行等离子体刻蚀0.5min； 步骤S33，分别检测所述步骤S31和所述步骤S32中，中空纤维膜支撑层的质量变化，将：所述步骤S32的中空纤维膜支撑层质量变化量和所述步骤S31的中空纤维膜支撑层质量变化量之差，与，中空纤维膜在进行步骤S31前的质量的比值，作为O2等离子体刻蚀的化学贡献度； 步骤S4，将所述中空纤维膜基膜依次浸泡于胺类水相溶液和油相溶液，进行界面聚合反应； 步骤S5，将经过步骤S4后得到的中空纤维膜基膜依次浸泡于浓度降低后的胺类水相溶液和油相溶液进行二次界面聚合反应； 在所述步骤S5中，胺类水相溶液和油相溶液的质量百分比浓度基于所述O2等离子体刻蚀的化学贡献度选取； 其中，所述步骤S5的胺类水相溶液和油相溶液的质量百分比浓度与所述O2等离子体刻蚀的化学贡献度成负相关； 步骤S6，将步骤S5中得到的经过二次界面聚合反应的中空纤维膜基膜用超纯水洗涤后置于60℃的超纯水中浸泡5～10min，再于含甘油的水溶液中浸泡1min～2min，烘干后得到所述中空纤维纳滤膜； 其中，所述中空纤维膜支撑层为平均孔径50nm～200nm且孔隙率大于70％的聚四氟乙烯中空纤维膜。

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