哈钦森技术股份有限公司D·P·里默获国家专利权
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龙图腾网获悉哈钦森技术股份有限公司申请的专利电极接片及其形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114746273B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080078762.7，技术领域涉及：B32B38/10；该发明授权电极接片及其形成方法是由D·P·里默;P·F·拉德维希;J·D·斯塔基;M·W·戴维斯;D·M·约尔金设计研发完成，并于2020-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本电极接片及其形成方法在说明书摘要公布了：描述了电接片和制造方法。一种方法包括在基材的第二侧设置介电层，该基材具有第一侧和第二侧。该方法包括在基材的第二侧显影介电层。并且，该方法包括蚀刻基材的第一侧，以形成电极接片。
本发明授权电极接片及其形成方法在权利要求书中公布了：1.一种制造方法，包括： 在基材的第二侧上设置结合层，所述基材具有所述第二侧和与所述第二侧相反的第一侧； 在位于所述基材的所述第二侧上的所述结合层上设置第一介电层； 根据第一图案在所述基材的所述第二侧上对所述第一介电层进行显影； 对所述基材的所述第一侧的至少一部分进行蚀刻，以形成电极接片； 在对所述基材的所述第一侧进行蚀刻之后，对所述结合层进行微蚀刻；以及 在所述电极接片上镀覆镍。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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