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申请/专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
摘要：本发明公开了一种利用OVL机台量测关键尺寸的方法，包括步骤：1在芯片上设计能过量测的OVL标记；2光刻成型后，利用OVL机台实际量测OVL标记，建立OVL量测程式，通过OVL大小反应关键尺寸大小；还包括步骤：3在经过上述方法得到的关键尺寸，通过CD-SEM的校准，从而得出两个系统之间的偏差。本发明利用相对廉价的OVL机台来量测关键尺寸，从而使工厂的产能调配，经济生产更加有弹力。
主权项：一种利用OVL机台量测关键尺寸的方法，包括步骤：1在芯片上设计能过量测的OVL标记；2光刻成型后，利用OVL机台实际量测OVL标记，建立OVL量测程式，通过OVL大小反应关键尺寸大小。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华虹NEC电子有限公司 一种利用OVL机台量测关键尺寸的方法
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