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申请/专利权人：长沙新材料产业研究院有限公司
申请日：2017-12-27
公开（公告）日：2018-06-12
公开（公告）号：CN108149223A
专利技术分类：..向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种MPCVD腔体结构及MPCVD设备，包括中空的本体，所述本体上设有进气管，本体内壁上设有多个与进气管连通的进气口，所述多个进气口至少分为一层，同一层的各进气口均匀分布于本体内壁的同一高度处；所述本体上设有与本体内腔连通的出气管。本发明的腔体结构中气体经过进气管，多个进气口，均匀进入腔体，可保证腔体内部气体的均匀性；同时，进气口大小不同，可保证每个进气口的气流量基本相同，保障进气的均匀性；本发明设备设计紧凑，结构合理，便于操作，等离子体稳定且分布均匀，适于制备大面积、均匀的MPCVD沉积产品。
专利权项：一种MPCVD腔体结构，包括中空的本体（1），其特征在于，所述本体（1）上设有进气管（3），本体（1）内壁上设有多个与进气管（3）连通的进气口（6），所述本体（1）上设有与本体（1）内腔连通的出气管（17）。
百度查询： 长沙新材料产业研究院有限公司 一种MPCVD腔体结构及MPCVD设备
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