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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日：2005-03-10
公开（公告）日：2005-11-23
公开（公告）号：CN1700054A
专利技术分类：
专利摘要：一种微镜及微镜制造方法。包括：一种微镜，包括一基板、一反射层以及一保护层。反射层成形于该基板上，并且包括有纯铝。保护层成形于反射层上，并且包括有氮化钛。
专利权项：1.一种微镜，其特征在于，包括：一基板；一反射层，成形于所述的基板上，并且包括有纯铝；以及一保护层，成形于所述的反射层上，并且包括有氮化钛。
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 微镜及微镜制造方法
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