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申请/专利权人：株式会社堀场制作所;株式会社堀场先进技术
申请日：2014-07-01
公开（公告）日：2015-02-11
公开（公告）号：CN104345033A
专利技术分类：.入射光根据所测试的材料性质而改变的系统（其中所测试的材料因受到光学激发而引起入射光波长改变的入G01N21/63）[2006.01]
专利摘要：本发明提供能简单且迅速地确定装置的错误的水质分析装置和水质分析方法。所述水质分析装置1执行：试样液注入步骤，向池6注入试样液；试剂注入步骤，向池6注入试剂；反应步骤，在池6内使试样液和试剂反应；以及测量步骤，测量在池6内经过了反应步骤的试样液中含有的规定的测量对象成分，在试样液注入步骤、试剂注入步骤、反应步骤和测量步骤中，对池6照射光并通过光检测部8检测从池6射出的光，水质分析装置1具有用于存储通过所述光检测部8得到的光检测数据或使用该光检测数据计算出的计算数据的数据存储部12。
专利权项：一种水质分析装置，其特征在于，所述水质分析装置执行：试样液注入步骤，向池注入试样液；试剂注入步骤，向所述池注入试剂；反应步骤，在所述池内使所述试样液和所述试剂反应；以及测量步骤，测量在所述池内经过了所述反应步骤的试样液中含有的规定的测量对象成分，所述水质分析装置具有数据存储部，在所述试样液注入步骤、所述试剂注入步骤、所述反应步骤和所述测量步骤中，向所述池照射光并且通过光检测部检测从所述池射出的光，所述数据存储部存储通过所述光检测部得到的光检测数据或使用该光检测数据计算出的计算数据。
百度查询： 株式会社堀场制作所 株式会社堀场先进技术 水质分析装置和水质分析方法
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