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申请/专利权人：北京丹鹏表面技术研究中心
摘要：本发明公开了一种基于GIS和HIPIMS技术的用于凹版印刷板表面CrN涂层制备方法，本发明采用气体离子源刻蚀清洗技术GasIonSourceEtching,GISETCH和高功率脉冲磁控溅射技术HighPowerImpulseMagnetronSputtering，HIPIMS，在凹版印刷板表面镀制高质量的Cr+CrN涂层，用于取代原有的水电镀工艺。通过球坑测试、粗糙度测试、划痕试验、硬度测试、表面形貌观察等分析涂层各方面的性能后发现，GISETCH和HIPIMS技术制备的Cr+CrN涂层膜基结合力更强，其表面晶粒更细小，缺陷少，断面组织致密，经过实际印刷测试，耐印率超过水电镀水平。
主权项：1.一种基于GIS和HIPIMS技术的用于凹版印刷板表面CrN涂层制备方法，其特征在于，具体步骤如下：采用镍板为基底，将镍板表面清洗干燥，然后固定在镀膜机转架上，镀膜机抽真空后，设定一定的温度和偏压，通入一定量的氩气和氢气，通过气体离子源刻蚀清洗技术GasIonSourceEtching,GISETCH，Ar原子和H原子在高电压下电离出Ar离子和H离子，Ar离子和H离子在偏压的作用下轰击和活化镍板，完成对镍板表面刻蚀清洗，然后在镀膜工艺下完成Cr+CrN复合涂层的制备。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京丹鹏表面技术研究中心 一种基于GIS和HIPIMS技术的用于凹版印刷板表面CrN涂层制备方法
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