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共混制备光催化性能PMIA混合基质膜的方法与应用 

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申请/专利权人:上海应用技术大学

摘要:本发明涉及一种共混制备光催化性能聚间苯二甲酰间苯二胺混合基质膜的方法与应用,制备方法包括:将水热合成法制备的GO~ZnO~Ag纳米复合材料与聚间苯二甲酰间苯二胺PMIA混合并配制得到铸膜液,通过非溶剂致相分离法制得PMIA混合基质膜;该混合基质膜可用于提高超滤膜的抗有机物污染性能。与现有技术相比,本发明将光催化剂GO~ZnO~Ag以添加剂的形式加入PMIA铸膜液,通过共混改性的PMIA膜,不仅使得复合膜机械强度提高,同时亲水性也得到大幅增强,并具有更好的抗亚甲基蓝污染能力。

主权项:1.一种共混制备光催化性能PMIA混合基质膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:通过水热法合成具有光催化性能的GO~ZnO~Ag纳米复合材料;S2:将S1中得到的GO~ZnO~Ag纳米复合材料与PMIA混合,配制得到铸膜液;S3:将S2中得到的铸膜液通过非溶剂致相分离法制得PMIA混合基质膜。

全文数据:

权利要求:

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