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自粘贴制备光催化性能PMIA混合基质膜的方法与应用 

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申请/专利权人:上海应用技术大学

摘要:本发明涉及一种自粘贴制光催化性能聚间苯二甲酰间苯二胺膜的方法与应用,制备方法包括:将聚间苯二甲酰间苯二胺PMIA配制得到铸膜液,之后在分散有ZnO‑Ag‑TiO2的溶液中进行凝胶浴,通过自粘贴法将光催化剂ZnO‑Ag‑TiO2负载在PMIA膜上,制得PMIA光催化膜;该膜可用于提高对印染废水中对有害物质六价铬催化还原为三价铬的能力。与现有技术相比,本发明将光催化剂ZnO‑Ag‑TiO2固定在PMIA铸膜表面,通过自粘贴法引入无机纳米粒子改性的PMIA膜,减少了催化剂的流失回收难等问题,也使得亲水性得到大幅增强的同时,并具有更好的光催化降解性能。

主权项:1.一种自粘贴制备光催化性能PMIA混合基质膜的方法,其特征在于,该方法包括:将水热合成的具有光催化性能的ZnO-Ag-TiO2纳米复合材料的水溶液作为PMIA膜进行非溶剂致相分离的凝胶浴,在非溶剂致相分离过程中与PMIA膜自粘贴,实现纳米颗粒在膜表面的固定,以此得到光催化性能PMIA混合基质膜。

全文数据:

权利要求:

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