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一种稀土四氟化物NalnF4薄膜及其制备方法 

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申请/专利权人:桂林理工大学

摘要:本发明公开了一种稀土四氟化物NalnF4薄膜及其制备方法,包括以下步骤:以稀土硝酸盐的水溶液作为电沉积溶液,采用脉冲电压沉积法制备得到稀土层状氢氧化物薄膜;将氟化钠溶解获得溶液,调节pH值;将所述稀土层状氢氧化物薄膜浸没于所述氟化钠溶液中,进行置换反应,得到稀土四氟化物薄膜。本发明提供的制备方法反应条件温和、操作简单,制备得到的稀土四氟化物薄膜平整且均匀,薄膜附着度高,结晶性好。

主权项:1.一种稀土四氟化物NalnF4薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:以稀土硝酸盐的水溶液作为电沉积溶液,采用脉冲电压沉积法制备得到稀土层状氢氧化物薄膜;将氟化钠和水混合后调节pH值至8~11,得到氟化钠溶液;所述氟化钠溶液的浓度为0.05~1molL;所述氟化钠和稀土层状氢氧化物的摩尔比≥40;将所述稀土层状氢氧化物薄膜浸没于所述氟化钠溶液中,进行置换反应,得到稀土四氟化物薄膜;所述脉冲电压沉积法采用的三电极体系包括工作电极、辅助电极和参比电极,所述工作电极为透明导电玻璃;所述辅助电极为Pt网;所述参比电极为AgAgClCl-电极;所述透明导电玻璃的一侧镀有ITO层、FTO层或AZO层;所述脉冲电压沉积法的工作参数为:沉积电压为-0.8~-1.3V,间隔时间为10~60s,总沉积时间为5~120min;所述脉冲电压沉积法的步骤包括:在沉积电压U1条件下进行第一沉积,所述第一沉积时间为t1,间隔时间为t2,重复2~4次,然后在沉积电压U2条件下进行第二沉积,所述第二沉积时间为t3,间隔时间为t4,重复2~3次;所述U1为-0.8~-1.3V;所述t1为1~3min;所述t2为10~60s;所述t3为1~3min;所述t4为10~60s。

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