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申请/专利权人：清华大学

摘要：本发明公开了环境PLD生长及电化学性能测试系统、方法及用途。该系统包括：脉冲激光沉积腔室、靶材屏蔽盒、激光发射装置、电化学工作站、反射高能电子衍射仪、配套使用的荧屏和CCD相机、真空手套箱和抽真空设备，其中通过电机驱动样品托在竖直方向上顺时针或逆时针旋转，靶材屏蔽盒可周期性移动，其顶壁设有偏心通孔且内部内设有多个沿靶材屏蔽盒周向布置的子屏蔽区，多个子屏蔽区互不连通且可相对于靶材屏蔽盒的顶壁旋转。采用该系统能够在超清洁的环境下获得电极材料的电化学性能，消除样品测试前转移样品过程中气相杂质的污染，同时可在系统中通入不同种类的气体，调节气体的湿度，研究其对电极材料的影响，提高测试的准确性。

主权项：1.一种环境PLD生长及电化学性能测试系统，其特征在于，包括：脉冲激光沉积腔室，所述脉冲激光沉积腔室上部内置有样品托，所述样品托上部设有连杆，所述连杆与电机相连，所述电机位于所述脉冲激光沉积腔室外，所述电机与所述连杆的连接位置处设有密封法兰，所述电机驱动所述样品托在竖直方向上顺时针或逆时针旋转；所述脉冲激光沉积腔室还设有激光入射窗口、电子枪入口、气体入口和气体出口，所述气体入口与反应气供给装置和杂质气体供给装置可切换相连；靶材屏蔽盒，所述靶材屏蔽盒内置于所述脉冲激光沉积腔室下部且可周期性移动，所述靶材屏蔽盒顶壁设有偏心通孔，所述靶材屏蔽盒内设有多个沿所述靶材屏蔽盒周向布置的子屏蔽区，多个所述子屏蔽区互不连通且可相对于所述靶材屏蔽盒的顶壁旋转；激光发射装置，所述激光发射装置适于通过所述激光入射窗口和所述偏心通孔向置于所述子屏蔽区内的靶材发射激光，以便使靶材溅射到置于所述样品托上的衬底上并沉积电极薄膜；电化学工作站，所述电化学工作站包括第一引线和第二引线，所述第一引线和所述第二引线适于通过所述密封法兰与所述样品托相连，以使得所述第一引线与沉积得到的电极薄膜的工作电极相连、所述第二引线与沉积得到的电极薄膜的对电极相连；反射高能电子衍射仪，所述反射高能电子衍射仪包括电子枪和差分泵，所述电子枪通过所述电子枪入口伸入所述脉冲激光沉积腔室内并指向所述样品托；配套使用的荧屏和CCD相机，所述荧屏设在所述脉冲激光沉积腔室上并适于显示电极薄膜沉积过程中打在其上的电子衍射形成的光斑，所述CCD相机设在所述脉冲激光沉积腔室外并适于记录所述荧屏上显示的光斑的动态变化过程，以便获得电极薄膜沉积过程中的表面结构变化；真空手套箱，所述真空手套箱与所述脉冲激光沉积腔室密封相连；抽真空设备，所述抽真空设备与所述气体出口相连。

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