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摘要：本发明公开了一种具有自补偿功能的MBE液态源炉及其使用方法。该液态源炉具有液位自补偿、突出的长时稳定束流、较好的可重复性、非暴露开腔式加注液态材料等特性，可应用于使用液态源的分子束外延领域。该液态源炉由液态材料储存系统、液位控制系统、束流发射系统构成，可以根据液态材料储存系统和生长腔的压强差来动态调节液态材料的液位高度，实现自动维持液位高度恒定。应用了该液态源炉的分子束系统，可以有效解决液态源炉中由材料消耗带来的束流稳定性差的问题，进一步提高分子束外延的性能。本发明在提出一种具有液位自补偿功能的MBE液态源炉的基础上，也提出了其使用方法。
主权项：1.一种具有自补偿功能的MBE液态源炉及其使用方法，其特征在于：该MBE液态源炉具有液位自补偿功能，可根据束流发射系统20和液态材料储存系统30的压强差来动态调节液态材料的液位高度，自动维持液位高度恒定。
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百度查询： 电子科技大学长三角研究院(湖州) 一种具有自补偿功能的MBE液态源炉及其使用方法
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