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申请/专利权人：深圳清力技术有限公司
摘要：本发明属于芯片技术领域，具体涉及一种调节Su‑8表面亲水性的方法。本发明实施例公开的调节Su‑8表面亲水性的方法，包括以下步骤：1在基体表面旋涂Su‑8，通过光刻显影处理形成微纳米结构；2将多巴胺和纳米二氧化钛混合液旋涂在Su‑8表面；3将掩膜版覆盖在所述多巴胺和纳米二氧化钛混合液的表面，其中需要亲水处理的区域透光，其他区域则不透光；4在掩膜版上方进行紫外光照射处理。该方法能够选择性地调节Su‑8表面区域或微结构的亲水性，且形成的聚多巴胺亲水效果好，且稳定性高，能长时间保持材料表面的亲水性。
主权项：1.一种调节Su-8表面亲水性的方法，其特征在于，包括以下步骤：1在基体表面旋涂Su-8，通过光刻显影处理形成微纳米结构；2将多巴胺和纳米二氧化钛混合液旋涂在Su-8表面；3将掩膜版覆盖在所述多巴胺和纳米二氧化钛混合液的表面，其中需要亲水处理的区域透光，其他区域则不透光；4在所述步骤3所述的掩膜版上方进行紫外光照射处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳清力技术有限公司 一种调节Su-8表面亲水性的方法
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