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申请/专利权人:基迈克材料科技(苏州)有限公司
摘要:本发明公开了一种用于降低镀膜掉渣率的NiCr靶材表面处理方法,涉及溅射镀膜领域,旨在解决NiCr靶材镀膜掉渣率高的问题,其技术方案要点是:一种用于降低镀膜掉渣率的NiCr靶材表面处理方法,包括以下步骤:S1、靶材准备:准备表面未处理的NiCr靶材成品;S2、抛光处理:将上述靶材的溅射面与非溅射面的上下两面进行抛光处理;S3、遮护:将靶材的溅射区域部分进行遮护;S4、一次喷砂粗化:将所述靶材的溅射区进行第一次喷砂粗化处理;S5、二次喷砂粗化:将所述靶材的溅射区进行第二次喷砂粗化处理。本发明的一种用于降低镀膜掉渣率的NiCr靶材表面处理方法能够有效降低镀膜掉渣率。
主权项:1.一种用于降低镀膜掉渣率的NiCr靶材表面处理方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、靶材准备:准备表面未处理的NiCr靶材成品;S2、抛光处理:将上述靶材的溅射面与非溅射面的上下两面进行抛光处理;S3、遮护:将靶材的溅射区域部分进行遮护;S4、一次喷砂粗化:将所述靶材的溅射面进行第一次喷砂粗化处理;S5、二次喷砂粗化:将所述靶材的溅射面进行第二次喷砂粗化处理。
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权利要求:
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