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申请/专利权人：厦门市三安集成电路有限公司

摘要：本发明提供了一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，包括如下步骤：1导入：将设计版图导入系统，对相关层进行对DRC检查操作，按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容，以便使每条设计规则自动找到相关层；2检查：①选择相应的设计规则，对设计版图的相关层进行检查；②根据检查结果所储存的错误信息坐标点，还原出错误信息坐标点对应的版图图像；③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化；④将优化后的版图图像叠加于设计版图上；3显示：在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置，不同类型错误信息的版图图像的颜色不同。上述的方法，不需要人工一条规则一条规则的审查、截图、制作报告。

主权项：1.一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于包括如下步骤：1）导入：将设计版图导入系统，对相关层进行对DRC检查操作，按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容，以便使每条设计规则自动找到相关层；2）检查：具体分为如下几个子步骤：①选择相应的设计规则，对设计版图的相关层进行检查；②根据检查结果所储存的错误信息坐标点，还原出错误信息坐标点对应的版图图像；③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化；④将优化后的版图图像叠加于设计版图上；3）显示：在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置，不同类型错误信息的版图图像的颜色不同，生成GDS格式的DRC结果报告；其中所述对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化具体是指：对错误信息坐标点对应的版图图像外周生成一个框体；不同类型错误信息的版图图像的框体颜色不同；所述对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化具体是指：若错误信息坐标点对应的版图图像大小小于阈值时，则将所述错误信息坐标点对应的版图图像的区域扩大到大于等于阈值的面积；若多个错误信息坐标点对应的版图图像具有相互重合的区域，则将这多个错误信息坐标点对应的版图图像拼合成一个版图图像，对拼合后的版图图像外周生成一个框体。

全文数据：一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法技术领域本发明涉及集成电路领域，尤其涉及集成电路设计版图DRC审查领域。背景技术DRC文件是半导体设计生产中不可或缺的文件，是通过人工的方式，将DRC文件中记载的错误坐标逐一还原到设计版图文件中，进而对DRC文件中生成的错误信息进行修改。而DRC文件中坐标数据成千上万，依靠人工基本无法全部逐点对比，失去了DRC审查的意义，审查效率也很低。发明内容本发明所要解决的主要技术问题是提供一种提高集成电路版图DRC审查效率的方法，不需要人工一条规则一条规则的审查、截图、制作报告。为了解决上述的技术问题，本发明提供了一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，包括如下步骤：1导入：将设计版图导入系统，对相关层进行对DRC检查操作，按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容，以便使每条设计规则自动找到相关层；2检查：具体分为如下几个子步骤：①选择相应的设计规则，对设计版图的相关层进行检查；②根据检查结果所储存的错误信息坐标点，还原出错误信息坐标点对应的版图图像；③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化；④将优化后的版图图像叠加于设计版图上；3显示：在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置，不同类型错误信息的版图图像的颜色不同，生成GDS格式的DRC结果报告。在一较佳实施例中：所述DRC规则程序档案是根据制程工艺流程建立的关于每个技术节点的每条设计规则的相关层的程序档案。在一较佳实施例中：所述对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化具体是指：对错误信息坐标点对应的版图图像外周生成一个框体；不同类型错误信息的版图图像的框体颜色不同。在一较佳实施例中：所述对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化具体是指：若错误信息坐标点对应的版图图像大小小于阈值时，则将所述错误信息坐标点对应的版图图像的区域扩大到大于等于阈值的面积。在一较佳实施例中：若多个错误信息坐标点对应的版图图像具有相互重合的区域，则将这多个错误信息坐标点对应的版图图像拼合成一个版图图像，对拼合后的版图图像外周生成一个框体。在一较佳实施例中：所述GDS格式的DRC结果报告分为版图图像区域与文字区域；所述版图图像区域显示叠加后的版图图像；文字区域显示每一个错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。在一较佳实施例中：所述版图图像区域中，每一个错误信息的版图图像外周都具有一高亮框体；不同类型的错误信息对应不同颜色的高亮框体；所述文字区域中，每一个错误信息的版图图像所对应的DRC设计规则、坐标的字体颜色与高亮框体的颜色对应。在一较佳实施例中：所述版图图像区域中，在高亮框体外还通过文字显示该错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。在一较佳实施例中：所述版图图像区域中，若错误信息坐标点对应的版图图像大小小于阈值时，则将所述错误信息坐标点对应的版图图像的区域扩大到大于等于阈值的面积。相较于现有技术，本发明的技术方案具备以下有益效果：1.本发明提供的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，能够实现在原有集成电路版设计图上直接显示出错误信息所在的区域，并通过框体标识出来，非常直观，无需人工根据坐标对对应的版图进行截图后再制作报告。2.本发明提供的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，通过各种方法对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化，使得最终生成的GDS格式的DRC结果报告上，具有一个简洁直观的版图图像区域。3.本发明提供的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，最终生成的GDS格式的DRC结果报告上，还具有文字区域，其显示每一个错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。通过将文字区域和版图图像区域对照比对，就可以很直观地得出版图图像区域上的框体对应的DRC代号、设计规则。具体实施方式下面结合实施例，对本发明作进一步说明。一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，包括如下步骤：1导入：将设计版图导入系统，对相关层进行对DRC检查操作，按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容，以便使每条设计规则自动找到相关层；所述DRC规则程序档案是根据制程工艺流程建立的关于每个技术节点的每条设计规则的相关层的程序档案。2检查：具体分为如下几个子步骤：①选择相应的设计规则，对设计版图的相关层进行检查；②根据检查结果所储存的错误信息坐标点，还原出错误信息坐标点对应的版图图像；③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化；④将优化后的版图图像叠加于设计版图上；3显示：在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置，不同类型错误信息的版图图像的颜色不同，生成GDS格式的DRC结果报告。本实施例中，为了对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化，采用了如下的优化方法1.对错误信息坐标点对应的版图图像外周生成一个框体；不同类型错误信息的版图图像的框体颜色不同。通过框体将错误信息坐标点对应的版图图像框起，这样就可以很直观地显示出具有错误信息的版图图像所在的位置。2.所述对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化具体是指：若错误信息坐标点对应的版图图像大小小于阈值时，则将所述错误信息坐标点对应的版图图像的区域扩大到大于等于阈值的面积。这样可以避免错误信息坐标点对应的版图图像太小，从而不容易被发现的问题。3.若多个错误信息坐标点对应的版图图像具有相互重合的区域，则将这多个错误信息坐标点对应的版图图像拼合成一个版图图像，对拼合后的版图图像外周生成一个框体。这样可以避免版图图像上的框体过多，从而影响观看。通过上述步骤生成的所述GDS格式的DRC结果报告，就可以分为版图图像区域与文字区域；所述版图图像区域显示叠加后的版图图像；文字区域显示每一个错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。并且，所述版图图像区域中，每一个错误信息的版图图像外周都具有一高亮框体；不同类型的错误信息对应不同颜色的高亮框体；所述文字区域中，每一个错误信息的版图图像所对应的DRC设计规则、坐标的字体颜色与高亮框体的颜色对应。所述版图图像区域中，在高亮框体外还通过文字显示该错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。所述版图图像区域中，若错误信息坐标点对应的版图图像大小小于阈值时，则将所述错误信息坐标点对应的版图图像的区域扩大到大于等于阈值的面积；-上述的一种提高集成电路版图DRC审查效率的方法，最终生成的GDS格式的DRC结果报告上，还具有文字区域，其显示每一个错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。通过将文字区域和版图图像区域对照比对，就可以很直观地得出版图图像区域上的框体对应的DRC代号、设计规则。显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。

权利要求：1.一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于包括如下步骤：1导入：将设计版图导入系统，对相关层进行对DRC检查操作，按照设计规则的名称调取DRC规则程序档案的内容，以便使每条设计规则自动找到相关层；2检查：具体分为如下几个子步骤：①选择相应的设计规则，对设计版图的相关层进行检查；②根据检查结果所储存的错误信息坐标点，还原出错误信息坐标点对应的版图图像；③对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化；④将优化后的版图图像叠加于设计版图上；3显示：在设计版图上直接显示错误信息及错误信息位置，不同类型错误信息的版图图像的颜色不同，生成GDS格式的DRC结果报告。2.根据权利要求1所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：所述DRC规则程序档案是根据制程工艺流程建立的关于每个技术节点的每条设计规则的相关层的程序档案。3.根据权利要求1所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：所述对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化具体是指：对错误信息坐标点对应的版图图像外周生成一个框体；不同类型错误信息的版图图像的框体颜色不同。4.根据权利要求1所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：所述对错误信息坐标点对应的版图图像进行优化具体是指：若错误信息坐标点对应的版图图像大小小于阈值时，则将所述错误信息坐标点对应的版图图像的区域扩大到大于等于阈值的面积。5.根据权利要求1所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：若多个错误信息坐标点对应的版图图像具有相互重合的区域，则将这多个错误信息坐标点对应的版图图像拼合成一个版图图像，对拼合后的版图图像外周生成一个框体。6.根据权利要求1-5中任一项所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：所述GDS格式的DRC结果报告分为版图图像区域与文字区域；所述版图图像区域显示叠加后的版图图像；文字区域显示每一个错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。7.根据权利要求6所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：所述版图图像区域中，每一个错误信息的版图图像外周都具有一高亮框体；不同类型的错误信息对应不同颜色的高亮框体；所述文字区域中，每一个错误信息的版图图像所对应的DRC设计规则、坐标的字体颜色与高亮框体的颜色对应。8.根据权利要求7所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：所述版图图像区域中，在高亮框体外还通过文字显示该错误信息的版图图像所对应的DRC代号、设计规则。9.根据权利要求7所述的一种提高集成电路设计版图DRC审查效率的方法，其特征在于：所述版图图像区域中，若错误信息坐标点对应的版图图像大小小于阈值时，则将所述错误信息坐标点对应的版图图像的区域扩大到大于等于阈值的面积。

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