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一种二维Cs2SnI6晶体的化学气相沉积制备方法及其应用 

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申请/专利权人:温州大学新材料与产业技术研究院

摘要:本发明属于纳米半导体材料领域,并具体公开了一种二维Cs2SnI6晶体材料的化学气相沉积制备方法及其应用。该制备方法具体为:将碘化铯和二碘化锡混合获得前驱体,将云母衬底倒扣在前驱体粉末之上,但不接触粉末。然后在惰性气体中将前驱体置于中心温区前端15厘米处对其加热生成Cs2SnI6晶体材料,从而在位于前驱体上方的云母衬底上进行沉积,形成二维Cs2SnI6晶体材料。利用本发明方法,制备了高质量的二维Cs2SnI6单晶,拓展了新的二维Cs2SnI6晶体的合成方法,所得产物晶面平整、形貌均一、元素分布均匀,解决了传统铅基钙钛矿有毒及不稳定的缺点,便于钙钛矿的实际应用及大规模生产。

主权项:1.一种二维Cs2SnI6晶体的化学气相沉积制备方法,其特征在于,该制备方法具体步骤为:S1:选取反应容器,所述反应容器分为上游沉积区、中心温区和下游区域,将碘化铯和二碘化锡充分混合获得前驱体粉末,将所述前驱体粉末均匀铺展置于所述上游沉积区,将云母衬底倒扣在所述前驱体粉末上方,但不接触粉末;S2:在惰性气体中,采用快速升温的方法将所述前驱体置于中心温区加热;S3:在所述上游沉积区中云母衬底上进行沉积,在保温时间内利用前驱体蒸汽反应形成所述二维Cs2SnI6晶体材料。

全文数据:

权利要求:

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