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申请/专利权人:江苏透波光电科技有限公司
摘要:本发明公开了一种陶瓷基板大功率真空溅射设备,涉及真空镀膜技术领域,包括真空腔体、设置于真空腔体中部的磁控靶、设置于磁控靶外围的固定架以及可拆卸固定于固定架上的陶瓷基板本体,所述真空腔体由筒体、设置于筒体顶端的顶板以及设置于筒体底部的底板组成;所述固定架包括均匀设置于磁控靶外围且与磁控靶平行设置的立架以及设置于立架上用于对陶瓷基板本体定位的夹持组件,所述立架为方框状。该陶瓷基板大功率真空溅射设备,通过设置的固定架由立架和夹持组件组成,便于对陶瓷基板本体进行夹持,且夹持时不会存在对陶瓷基板本体两个面的接触情况,进而便于对陶瓷基板本体侧面溅射镀膜,可提高溅射镀膜效果。
主权项:1.一种陶瓷基板大功率真空溅射设备,包括真空腔体、设置于真空腔体中部的磁控靶(6)、设置于磁控靶(6)外围的固定架以及可拆卸固定于固定架上的陶瓷基板本体(8),其特征在于:所述真空腔体由筒体(1)、设置于筒体(1)顶端的顶板(10)以及设置于筒体(1)底部的底板(9)组成;所述固定架包括均匀设置于磁控靶(6)外围且与磁控靶(6)平行设置的立架(7)以及设置于立架(7)上用于对陶瓷基板本体(8)定位的夹持组件,所述立架(7)为方框状;所述夹持组件包括对称固定连接于立架(7)内侧两端的侧板(25),所述侧板(25)远离立架(7)的一端设置有凹口(43),所述凹口(43)活动连接有夹持板(38),所述夹持板(38)的一端与凹口(43)的内壁之间设置有第二弹簧(44),所述夹持板(38)远离侧板(25)的一端设置有定位槽(39),且定位槽(39)的横截面为等腰梯形或等腰三角形,所述夹持板(38)通过定位槽(39)与陶瓷基板本体(8)的两端夹紧。
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