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一种基于闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备梯度Ti-DLC复合自润滑薄膜的方法 

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申请/专利权人:哈尔滨工业大学

摘要:一种基于闭合场非平衡磁控溅射离子镀制备梯度Ti‑DLC复合自润滑薄膜的方法,本发明涉及类金刚石薄膜制备技术领域。本发明是要解决金属基体材料在高速重载、剧烈摩擦和严重腐蚀等服役条件经常会出现磨损和断裂等失效的问题。本发明采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀在金属基体表面制备梯度Ti‑DLC复合自润滑薄膜,首先氩离子溅射清洗试样表面,然后通过调控石墨靶和钛靶电流来依次沉积打底层、TiC梯度层、Ti‑C复合层和DLC顶层。本发明方法作简单有效,制备的梯度Ti‑DLC复合自润滑薄膜具有优异的耐磨耐蚀性能,且明显地降低了薄膜与基体材料在干摩擦条件下的摩擦系数和磨损率。本发明方法适用于金属基体表面耐磨减摩自润滑薄膜的制备。

主权项:1.一种基于闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备梯度Ti-DLC复合自润滑薄膜的方法,其特征在于该方法具体按以下步骤进行:一、基体预处理:在预磨机上依次用240#、800#、1200#、1500#和2000#的SiC砂纸对金属基体表面进行预磨;然后,用金刚石抛光剂抛光表面;再采用丙酮、无水乙醇和去离子水依次对表面进行超声波清洗10~30min;二、氩离子清洗:将步骤一得到的金属基体放入磁控溅射设备真空室内,当真空室本底真空度为3×10-3~5×10-3Pa,立即通入高纯氩气,氩气流量为14sccm~20sccm,调节金属基体偏压为-200V~-400V,氩离子溅射清洗金属基体表面10min~30min;三、沉积Ti-DLC复合自润滑薄膜:将步骤二处理的金属基体偏压降至-70V,采用调控石墨靶和钛靶电流的方式,依次沉积打底层、TiC梯度层、Ti-C复合层和DLC顶层,完成制备。

全文数据:

权利要求:

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