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图形密度分析以及建立图形密度分析模型的方法 

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申请/专利权人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

摘要:一种图形密度分析以及建立图形密度分析模型的方法,其中,图形密度分析方法包括:提供目标版图;将整个所述目标版图分成若干目标取样单元;建立图形密度分析模型,所述图形密度分析模型包括优化图形密度模型;建立与各所述目标取样单元分别对应的优化窗口模型,各所述优化窗口模型包括以各取样单元为中心的若干不同半径尺寸的优化窗口;获取各所述优化窗口内的版图图形的图形面积测量值;通过所述优化图形密度模型,以所述若干图形面积测量值获取所述目标版图各个目标取样单元的图形密度,提高图形密度分析的速度及准确性。

主权项:1.一种建立图形密度分析模型的方法,其特征在于,包括:提供版图;将所述版图分成若干取样单元;获取各个所述取样单元的图形密度参考值;建立与各所述取样单元分别对应的窗口模型,各所述窗口模型包括以取样单元为中心的若干不同半径尺寸的窗口;获取各所述窗口内的版图图形的图形面积测量值;提供图形密度与图形面积相关的初始图形密度模型;以若干所述图形密度参考值和对应的若干所述图形面积测量值对所述初始图形密度模型进行拟合,获取优化图形密度模型。

全文数据:

权利要求:

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