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申请/专利权人:上海集成电路制造创新中心有限公司
摘要:本发明公开了一种光学关键尺寸测量装置,包括:光源、成像模块和探测器;其中,通过控制所述光源、所述成像模块和所述探测器之间相对位置,以选择由所述光源提供的探测光的入射角,并由所述探测器在一定的波长范围内收集所述成像模块的光路中经过待测样品后散射的探测光信号角谱,实现测量精度和准确性的提高。本发明通过选择探测光的入射角度或连续扫描入射角度,能够在较大的波长范围内收集经过待测样品后散射的探测光信号角谱,从而能够通过宽光谱、多衍射级次增加更多有效信道,实现测量精度和准确性的明显提高。
主权项:1.一种光学关键尺寸测量装置,其特征在于,包括:光源、成像模块和探测器;其中,通过控制所述光源、所述成像模块和所述探测器之间相对位置,以选择由所述光源提供的探测光的入射角,并由所述探测器在一定的波长范围内收集所述成像模块的光路中经过待测样品后散射的探测光信号角谱,实现测量精度和准确性的提高。
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百度查询: 上海集成电路制造创新中心有限公司 一种光学关键尺寸测量装置
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