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申请/专利权人:上海大学
摘要:本公开涉及一种均质氮化硼薄膜及高效制备氮化硼薄膜的方法,包括:在反应炉的恒温区配置沉积腔室,所述沉积腔室小于反应炉内腔;所述沉积腔室管路连接气相前驱体氮源、气相前驱体硼源、载气源及稀释气源,在所述沉积腔室中,两种气相前驱体随流动的载气及稀释气在衬底表面进行氮化硼的化学气相沉积,得到初始氮化硼薄膜;所述化学气相沉积结束,利用惰性气体去除所述沉积腔室中残留的气相前驱体后,所述初始氮化硼薄膜继续随炉冷却,得到成品氮化硼薄膜;有效解决现有化学气相沉积法制备BN薄膜沉积效率低及薄膜的表面形貌不理想的问题。
主权项:1.一种高效制备氮化硼薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:在反应炉的恒温区配置沉积腔室,所述沉积腔室小于反应炉内腔;所述沉积腔室管路连接气相前驱体氮源、气相前驱体硼源、载气源及稀释气源,在所述沉积腔室中,两种气相前驱体随流动的载气及稀释气在介质衬底表面进行氮化硼的化学气相沉积,得到初始氮化硼薄膜;所述化学气相沉积结束,利用惰性气体去除所述沉积腔室中残留的气相前驱体后,所述初始氮化硼薄膜继续随炉冷却,得到成品氮化硼薄膜。
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