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申请/专利权人:成都中科卓尔智能科技集团有限公司
摘要:本实用新型公开了一种自调节抛光结构及磁流变抛光设备,涉及磁流变抛光技术领域。本实用新型包括支撑架、抛光头、移动模组和定位工装,所述抛光头与所述支撑架连接,所述定位工装与所述移动模组连接,所述定位工装位于所述抛光头下侧。本实用新型设置固定于支架的抛光头,通过移动模组使定位工装相对于抛光头移动,相比重量沉重的抛光头,定位工装的惯性更小,对定位工装的移动精度更高,解决了抛光头过于重量大而导致难以精确控制位置,对光学玻璃打磨效果差的问题。
主权项:1.一种自调节抛光结构,其特征在于:包括支撑架1、抛光头4、移动模组3和定位工装,所述抛光头4与所述支撑架1连接,所述定位工装与所述移动模组3连接,所述定位工装位于所述抛光头4下侧。
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