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一种种植大棚的均匀光照装置 

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申请/专利权人:南阳田润聚福药业股份有限公司

摘要:本实用新型涉及大棚种植技术领域,特别公开了一种种植大棚的均匀光照装置,包括大棚基座,大棚基座宽度方向的上端部固定安装有两个支撑块,两个支撑块的侧端部均对称开设有滑动槽,两个滑动槽之间的内侧壁滑动安装有两个转动轴,每两个转动轴之间均固定安装有同一个透明棚顶。本实用新型通过将种植大棚加装可位置调节的反射镜二、反射镜三和定向的反射镜一,使得反射镜一将接收到反射镜三的反射光对阳光无法直射的区域进行照射,使得大棚内部的部分植物避免了缺乏光照或光照时间较短的现象,拥有了更充足的光照条件,使该种植物的生长更为快速,从而提高了植物生长的速率,且提高了农产品的产量。

主权项:1.一种种植大棚的均匀光照装置,包括大棚基座1,其特征在于,所述大棚基座1宽度方向的上端部固定安装有两个支撑块11,两个所述支撑块11的侧端部均对称开设有滑动槽12,两个所述滑动槽12之间的内侧壁滑动安装有两个转动轴16,每两个所述转动轴16之间均固定安装有同一个透明棚顶13;其中,两个所述滑动槽12的长度大于大棚基座1的宽度,两个所述透明棚顶13呈现对称安装;所述大棚基座1的侧端部固定安装有反射镜一15,所述大棚基座1的上端部开设有两个内置槽14,两个所述内置槽14的内侧壁均滑动安装有承载块2;其中,所述反射镜一15的位置位于大棚基座1长度方向的内侧壁一侧。

全文数据:

权利要求:

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