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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司

摘要：本发明公开了一种第零层层间膜的填充质量监控结构，包括：多个呈条形结构且平行排列的有源区和栅极结构，栅极结构和有源区相垂直。由位于各栅极结构之间的各条金属主链以及对各条金属主链进行首尾连接的多条金属侧链连接形成的金属链。各金属主链通过跨越场氧的第一金属条、接触孔和有源区连接形成，金属侧链包括跨越对应的栅极结构的第二金属条。一个以上栅衬垫和对应的栅极结构连接。一个以上的链衬垫对，各链衬垫对的链衬垫和金属链上对应的金属条连接。链衬垫对的两个链衬垫之间的金属链所穿过的栅间隔区域为监控区域；通过测量链衬垫对之间的电阻检测监控区域的缺陷。本发明还提供一种第零层层间膜的填充质量的监控测试方法。

主权项：1.一种第零层层间膜的填充质量监控结构，其特征在于，监控结构包括：多个呈条形结构的有源区，各所述有源区的宽度相等且平行排列；各所述有源区之间隔离有场氧；多个呈条形结构的栅极结构，各所述栅极结构的宽度相等且平行排列，各所述栅极结构的长度方向和所述有源区的长度方向垂直；所述栅极结构之间的栅间隔区域中填充有第零层层间膜；根据所要检测的缺陷类型设置所述栅间隔区域的宽度，所述栅间隔区域的宽度为一个以上；金属链，包括位于各所述栅极结构之间的各条金属主链以及对各条所述金属主链进行首尾连接的多条金属侧链；各所述金属主链包括多根跨越各所述有源区之间的所述场氧的第一金属条，所述第一金属条的两个端部分别延伸到所跨越的场氧两侧的所述有源区上，两条相邻的所述第一金属条的端部之间具有金属间隔；各所述第一金属条的两个端部分别通过底部的接触孔和对应的所述有源区接触；相邻的所述第一金属条的端部之间通过所述金属间隔两侧端部的所述接触孔以及所述接触孔之间的所述有源区连接；各所述金属侧链包括第二金属条，所述第二金属条跨越对应的所述栅极结构，所述第二金属条的两个端部分别通过底部的接触孔和底部对应的所述有源区接触；一个以上的栅衬垫，所述栅衬垫和对应的所述栅极结构连接，所述栅衬垫用于在监控测试时提供使对应的所述栅极结构所控制的沟道区截止的电压；一个以上的链衬垫对，各所述链衬垫对由两个链衬垫组成，各所述链衬垫和所述金属链上对应的金属条连接；所述金属链上的各所述接触孔作为缺陷测试点，当所述缺陷测试点存在缺陷时，所述接触孔的底部和所述有源区的接触断开；所述链衬垫对的两个所述链衬垫之间的所述金属链所穿过的所述栅间隔区域为所述链衬垫对的监控区域；所述链衬垫对用于在监控测试时对所述链衬垫对的两个所述链衬垫之间的所述金属链进行电阻测量并判断所述监控区域是否存在缺陷，当所述链衬垫对的两个所述链衬垫之间的所述金属链导通时，所述监控区域的所述第零层层间膜的填充正常；当所述链衬垫对的两个所述链衬垫之间的所述金属链断开时，所述监控区域存在缺陷。

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