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申请/专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
摘要：本发明提供一种X射线分析装置。该装置具备：试样载台2，其供试样S放置；X射线源3，其向试样载台上的照射点照射一次X射线X1；X射线检测器4，其检测从试样放射的二次X射线X2；分析器5，其对所述信号进行分析；载台移动机构6，其使试样载台与X射线源以及X射线检测器相对移动而能够移动照射点；多个观察光学系统7A、7B，它们的焦点预先与照射点一致，并且能够对包含照射点的周围进行拍摄，且配置在相互不同的位置；以及运算部8，其基于对由多个观察光学系统拍摄到的多个图像进行比较而得到的视差来计算试样的高度位置的偏差量，并基于偏差量来制作从一次X射线的光轴观察到的图像。
主权项：1.一种X射线分析装置，其特征在于，具有：试样载台，其供试样放置；X射线源，其向所述试样载台上的照射点照射一次X射线；X射线检测器，其检测从被照射了所述一次X射线的所述试样放射的二次X射线，输出包含所述二次X射线的能量信息的信号；分析器，其对所述信号进行分析；载台移动机构，其能够使所述试样载台与所述X射线源以及所述X射线检测器相对移动而移动所述照射点；多个观察光学系统，它们的焦点预先与所述照射点一致，所述多个观察光学系统能够对包含所述照射点的周围进行拍摄，并且配置在相互不同的位置；以及运算部，其根据对由所述多个观察光学系统拍摄到的多个图像进行比较而得到的视差，计算所述试样的高度位置的偏差量，根据所述偏差量生成从所述一次X射线的光轴观察到的图像。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日本株式会社日立高新技术科学 X射线分析装置
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