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申请/专利权人：阿维塔科技(重庆)有限公司
摘要：本申请公开了一种模型渲染方法、装置、设备、存储介质及计算机程序产品，所述方法包括：获取待生成反射效果的P个初始模型，以及用于产生反射效果的参考模型；基于所述P个初始模型和所述参考模型，确定与所述P个初始模型对应的P个反射模型；采用目标渲染摄像机对所述P个反射模型进行反射效果渲染，得到第一渲染图像；采用所述目标渲染摄像机对所述P个初始模型和所述参考模型进行正向效果渲染，得到正向渲染结果；将所述第一渲染图像和所述正向渲染结果进行融合，得到目标渲染图像。本申请方案不仅可以实现模型的正向效果和反射效果的渲染，而且能够有效减少渲染引擎的渲染压力和内存占用，达到渲染效果和性能的平衡。
主权项：1.一种模型渲染方法，其特征在于，所述方法包括：获取待生成反射效果的P个初始模型和用于产生反射效果的参考模型；所述P为大于0的整数；基于所述P个初始模型和所述参考模型，确定所述P个初始模型对应的P个反射模型；采用目标渲染摄像机对所述P个反射模型进行反射效果渲染，得到第一渲染图像；采用所述目标渲染摄像机对所述P个初始模型和所述参考模型进行正向效果渲染，得到正向渲染结果；将所述第一渲染图像和所述正向渲染结果进行融合，得到目标渲染图像。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 阿维塔科技(重庆)有限公司 模型渲染方法、装置、设备、存储介质及程序产品
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