首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

载置台和等离子体处理装置 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:本发明提供一种等离子体处理装置用的载置台,其可设定的温度的范围宽广,并且,能够细微地控制基片的面内温度分布。一个实施方式的载置台包括静电吸盘。静电吸盘具有基座和吸盘主体。吸盘主体设置在基座上,利用静电引力保持基片。吸盘主体具有多个第1加热器和多个第2加热器。多个第2加热器的个数比多个第1加热器的个数多。第1加热器控制器利用来自第1电源的交流或直流的输出对多个第1加热器进行驱动。第2加热器控制器利用来自第2电源的交流或直流的输出对多个第2加热器进行驱动,该第2电源具有比来自第1电源的输出的功率低的功率。

主权项:1.一种等离子体处理装置用的载置台,其特征在于,包括:供电部,其提供传输来自高频电源的高频的传输路径;和具有基座和吸盘主体的静电吸盘,其中,所述基座具有导电性,设置在所述供电部上,与所述供电部电连接,所述吸盘主体设置在所述基座上,利用静电引力保持基片,所述吸盘主体包括:由陶瓷形成的一个陶瓷主体,其具有基片搭载区域,在其上载置基片;和外周区域,其相对于该吸盘主体的中心轴线在径向从外侧包围该基片搭载区域,在所述外周区域上载置聚焦环,所述外周区域具有上表面,该上表面比该基片搭载区域的上表面靠近该吸盘主体的下表面,设置在所述一个陶瓷主体内的多个第1加热器,该多个第1加热器在与所述吸盘主体的所述中心轴线正交的所述吸盘主体内的面上分布,该多个第1加热器中的一部分至少设置在所述外周区域;和设置在所述一个陶瓷主体内的所述基片搭载区域的多个第2加热器,该多个第2加热器的个数比所述多个第1加热器的个数多,所述多个第2加热器在与所述中心轴线正交的该吸盘主体内的另一面上分布,所述载置台还包括:利用来自第1电源的交流或直流的输出,对所述多个第1加热器进行驱动的第1加热器控制器;和利用来自第2电源的交流或直流的输出,对所述多个第2加热器进行驱动的第2加热器控制器。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东京毅力科创株式会社 载置台和等离子体处理装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。