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边缘吹扫装置、基座系统及工艺腔室 

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申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

摘要:本发明提供一种边缘吹扫装置、基座系统及工艺腔室,该边缘吹扫装置用于吹扫承载于基座上的基片的边缘处,该边缘吹扫装置包括:吹扫通道和气源;其中,吹扫通道的出气口沿基座的周向设置,且出气口的出气方向相对于竖直方向朝向基座倾斜。通过本发明可实现改善基片边缘刻蚀或沉积的均匀性。

主权项:1.一种边缘吹扫装置,用于吹扫承载于基座上的基片的边缘处,其特征在于,所述边缘吹扫装置包括:吹扫通道和气源;其中,所述吹扫通道的出气口沿所述基座的周向设置,且所述出气口的出气方向相对于竖直方向朝向所述基座倾斜;所述气源用于向所述吹扫通道提供吹扫气体;还包括:进气管路;所述进气管路连通所述吹扫通道和所述气源,用于将来自所述气源的吹扫气体输送至所述吹扫通道中;温控结构;所述温控结构套置在所述进气管路上,用于控制所述进气管路中的吹扫气体的温度,使所述吹扫气体的温度低于所述基座的设定温度,以提升所述基片的边缘处的刻蚀速率。

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权利要求:

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