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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本申请公开一种半导体工艺设备，半导体工艺设备包括工艺腔室、基座、环形的预热环支架和至少两个间距检测机构，所述预热环支架固定于所述工艺腔室的内壁，所述基座安装于所述工艺腔室内，且所述基座的外缘与所述预热环支架的内缘在所述基座的径向上间隔设置；各所述间距检测机构均安装于所述工艺腔室，各所述间距检测机构均用于检测所述基座的外缘与所述预热环支架的内缘在所述径向上的间距，且所述至少两个间距检测机构各自在所述预热环支架上的检测位置在所述基座的周向上间隔设置。上述半导体工艺设备能够检测基座与工艺腔室的实时相对位置。
主权项：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括工艺腔室、基座、环形的预热环支架和至少两个间距检测机构，所述预热环支架固定于所述工艺腔室的内壁，所述基座安装于所述工艺腔室内，且所述基座的外缘与所述预热环支架的内缘在所述基座的径向上间隔设置；各所述间距检测机构均安装于所述工艺腔室，各所述间距检测机构均用于检测所述基座的外缘与所述预热环支架的内缘在所述径向上的间距，且所述至少两个间距检测机构各自在所述预热环支架上的检测位置在所述基座的周向上间隔设置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备
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