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申请/专利权人：株式会社三丰
摘要：本发明公开了结构化照明显微镜检查方法及结构化照明显微镜。在用于确定测试表面的高度图的结构化照明显微镜检查方法中使用结构化照明显微镜。本发明还涉及一种用于确定测试表面的高度图的结构化照明显微镜。所述显微镜包括光源、空间光调制器、扫描装置、光检测器和处理器。
主权项：1.用于确定测试表面的高度图的方法，在该方法中使用结构化照明显微镜，该结构化照明显微镜包括：-用于发射光束的光源；-用于调制由所述光源发射的光束的空间光调制器；-用于保持测试表面的测试表面保持架；-用于将调制的光束导向所述测试表面保持架中的测试表面的扫描装置，其中所述扫描装置和所述测试表面保持架能够在平行于光束的方向上在不同的扫描位置之间相对于彼此移动；-用于检测由布置在所述测试表面保持架中的测试表面反射的反射光束的光检测器；以及-连接至所述光检测器的处理器，其中所述方法包括：-在所述结构化照明显微镜的所述测试表面保持架中提供测试表面；-从所述光源发射光束，并使用所述空间光调制器调制由所述光源发射的光束，以产生测量图案，该测量图案在垂直于所述光束的方向上是周期性的，并且该测量图案具有测量图案相位；-使用所述扫描装置将调制的光束导向测试表面；-根据所述测量图案相位在不同的扫描位置之间移动所述扫描装置，并使用所述空间光调制器调制光束，使得所述测量图案在垂直于光束的方向上发生相移；-对于每个扫描位置和每次相移，使用所述光检测器检测反射光束，从而例如在所述光检测器的每个像素中产生检测信号；以及-由所述处理器通过基于所述检测信号确定测试表面的高度来确定测试表面的高度图，例如基于确定相应像素处的检测信号的幅值并确定幅值最大的扫描位置来进行，其中所述光束被调制成使得所述测量图案是至少第一周期性图案和第二周期性图案的叠加，所述第一周期性图案具有第一相位，所述第二周期性图案具有第二相位，其中所述第一相位和所述第二相位彼此不同，并且其中所述测量图案相位是所述第一相位和所述第二相位的最小公倍数的整数倍。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社三丰 结构化照明显微镜检查方法及结构化照明显微镜
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