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申请/专利权人:盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司
摘要:本发明涉及一种晶片沉积设备的颗粒清除装置及方法,包括:工艺腔室,配置有吸盘、升降装置与花洒头,所述吸盘固定晶片,所述升降装置升降所述吸盘;传送腔室,配置有机械臂,所述机械臂传送所述晶片;闸门,设置在所述工艺腔室与所述传送腔室之间;吹扫阀门,设置在连接于所述花洒头的吹扫气体供应线路;真空泵与节流阀,设置在所述工艺腔室的泵送线路;压力控制用气体供应线路,连接于所述传送腔室;压力控制器,设置在所述压力控制用气体供应线路,将所述传送腔室的压力保持在高于所述工艺腔室的压力;及控制部,控制所述吸盘、所述升降装置、所述机械臂、所述闸门、所述吹扫阀门、所述真空泵、所述节流阀、所述压力控制器的运行。
主权项:1.一种晶片沉积设备的颗粒清除装置,包括:工艺腔室,配置有吸盘、升降装置与花洒头,所述吸盘固定晶片,所述升降装置升降所述吸盘;传送腔室,配置有机械臂,所述机械臂传送所述晶片;闸门,设置在所述工艺腔室与所述传送腔室之间;吹扫阀门,设置在连接于所述花洒头的吹扫气体供应线路;真空泵与节流阀,设置在所述工艺腔室的泵送线路;压力控制用气体供应线路,连接于所述传送腔室;压力控制器,设置在所述压力控制用气体供应线路,将所述传送腔室的压力保持在高于所述工艺腔室的压力;及控制部,控制所述吸盘、所述升降装置、所述机械臂、所述闸门、所述吹扫阀门、所述真空泵、所述节流阀、所述压力控制器的运行。
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