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无机石英石镜面抛光工艺 

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申请/专利权人:佛山市晖锐新材料有限公司

摘要:本发明属于抛光技术领域,具体公开了无机石英石镜面抛光工艺,包括以下步骤:a.在无机石英石表面施加抛光剂,所述抛光剂由重量百分比的各组分组成:硅溶胶10~15%、甲基硅树脂1~5%、乙二醇3~7%、水溶性硅油1~3%和余量水,用抛光机抛光1~2h,得到抛光后的无机石英石;b.在抛光后的无机石英石表面均匀施加硅基材料,继续用抛光机抛光0.5~1h,得到镜面抛光的无机石英石。在抛光后的无机石英石表面施加5~10nm的SiO2,继续抛光使得SiO2填充进抛光后的无机石英石表面的毛细孔中,从而使无机石英石表面光滑,达到镜面效果,提高了光泽度;同时,使得无机石英石表面防水,阻隔空气中的水份进入无机石英石内部,从而抑制泛碱现象。

主权项:1.无机石英石镜面抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:a.在无机石英石表面施加抛光剂,所述抛光剂由重量百分比的各组分组成:硅溶胶10~15%、甲基硅树脂1~5%、乙二醇3~7%、水溶性硅油1~3%和余量水,用抛光机抛光1~2h,得到抛光后的无机石英石;b.在抛光后的无机石英石表面均匀施加硅基材料,继续用抛光机抛光0.5~1h,得到镜面抛光的无机石英石,所述硅基材料为粒径5~10nm的SiO2。

全文数据:

权利要求:

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