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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：一种等离子体处理腔室，包括一个或多个侧壁。位在该一个或多个侧壁内的支撑表面保持住工件。沿着该一个或多个侧壁设置的第一气体注射器在第一方向上注入第一气流，该第一方向大致与该工件的表面平行并横跨该工件的该表面。沿着该一个或多个侧壁与该第一气体注射器大致相对地设置的第一泵口抽出该第一气流。沿着该一个或多个侧壁设置的第二气体注射器在第二方向上注入第二气流，该第二方向大致与该工件的该表面平行并横跨该工件的该表面。沿着该一个或多个侧壁与该第二气体注射器大致相对地设置的第二泵口抽出该第二气流。传导性控制环调变所述泵口的传导性，并位在所述泵口的顶部处的等离子体屏附近。
主权项：1.一种等离子体处理腔室，包括：一个或多个侧壁；支撑表面，位于所述一个或多个侧壁内的基座上，用于将工件保持在处理区域中；第一气体注射器，沿着所述一个或多个侧壁设置，用于在第一方向上注入第一气流，所述第一方向大致与所述工件的表面平行并横跨所述工件的所述表面；第一泵口，沿着所述一个或多个侧壁与所述第一气体注射器大致相对地设置，用于抽出所述第一气流；第二气体注射器，沿着所述一个或多个侧壁设置，用于在第二方向上注入第二气流，所述第二方向大致与所述工件的所述表面平行并横跨所述工件的所述表面，所述第二方向与所述第一方向不同；第二泵口，沿着所述一个或多个侧壁与所述第二气体注射器大致相对地设置，用于抽出所述第二气流；和一个或多个传导性控制环，用于调变所述第一泵口和所述第二泵口的传导性，所述一个或多个传导性控制环位在所述第一泵口的顶部处的第一等离子体屏和所述第二泵口的顶部处的第二等离子体屏附近。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 具有多相旋转气体横流和周边传导性控制环的等离子体腔室
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