首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

一种提高CuCr1-xZnxO2多晶溅射靶材电性能的方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:昆明理工大学

摘要:本发明公开一种提高CuCr1‑xZnxO2多晶溅射靶材电性能的方法,属于热电材料及器件技术领域。本发明采用固相反应法,经过两次压制和两次烧结,最后按照垂直于压力的宏观面内方向切割,制备CuCr1‑xZnxO2多晶溅射靶材。通过测量多晶样品XRD和测量电阻率‑温度曲线,切割后的样品c轴择优性强、电阻率低。本发明所述方法对于研究P型半导体导电薄膜材料具有重要意义。

主权项:1.一种提高CuCr1-xZnxO2多晶溅射靶材电性能的方法,其特征在于,包括如下步骤:1将Cu2O、Cr2O3、ZnO粉末混合,充分研磨后压制,然后在空气中烧结,随炉冷却后研磨压制;然后再次烧结;2将烧结后的样品按垂直于压制压力的宏观面内方向切割为片状样品。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 昆明理工大学 一种提高CuCr1-xZnxO2多晶溅射靶材电性能的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

<相关技术