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一种高活性晶面共暴露0D/2D片状Bi0/Bi2YO4Cl吸波材料及制备方法和应用 

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申请/专利权人:辽宁大学

摘要:本发明涉及一种高活性晶面共暴露0D2D片状Bi0Bi2YO4Cl吸波材料及其制备方法和应用。是高活性{001}与{100}晶面共暴露的Bi0Bi2YO4Cl吸波材料,按质量百分比含有10~30%的Bi0。本发明通过晶面工程技术修饰Bi2YO4Cl,生成主要暴露{001}和{100}高活性晶面的二维片状单晶。再一次水热使其表面原位生长0D半金属Bi0,得到高活性{001}与{100}晶面共暴露的2D片状Bi0Bi2YO4Cl二元复合MW吸收材料。在MW驱动下,该材料对PFOA表现出超高的催化降解活性,在全氟烷基化合物污染的环境水体净化方面具有潜在的应用前景。

主权项:1.一种高活性晶面共暴露0D2D片状Bi0Bi2YO4Cl吸波材料,其特征在于,所述高活性晶面共暴露0D2D片状Bi0Bi2YO4Cl吸波材料是高活性{001}与{100}晶面共暴露的Bi0Bi2YO4Cl吸波材料;所述Bi0Bi2YO4Cl吸波材料中,按质量百分比含有10~30%的Bi0。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 辽宁大学 一种高活性晶面共暴露0D/2D片状Bi0/Bi2YO4Cl吸波材料及制备方法和应用

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